鍍層膜厚儀技術(shù)指標

分析元素范圍：硫（S）～鈾（U）

同時(shí)檢測元素：多24個(gè)元素，多達5層鍍層

分析含量：一般為2ppm到99.9%

鍍層厚度：一般在50μm以?xún)龋糠N材料有所不同）

SDD探測器：分辨率低至135eV

*微孔準直技術(shù)：小孔徑達0.1mm,小光斑達0.1mm

樣品觀(guān)察：配備全景和局部?jì)蓚€(gè)工業(yè)高清攝像頭

準直器：0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準直器組合

儀器尺寸：690（W）x 575（D）x 660（H）mm

樣品室尺寸：520（W）x 395（D）x150（H）mm

樣品臺尺寸：393（W）x 258 （D）mm

X/Y/Z平臺移動(dòng)速度：額定速度200mm/s 速度333.3mm/s

X/Y/Z平臺重復定位精度：小于0.1um

操作環(huán)境濕度：≤90%

操作環(huán)境溫度：15℃～30℃

鍍層膜厚儀工作原理

膜厚儀又叫膜厚計、膜厚測試儀，可分為磁感應鍍層測厚儀、電渦流鍍層測厚儀與熒光X射線(xiàn)儀鍍層測厚儀。 它的主要測量方法是采用磁感應原理時(shí)，利用從測頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。

磁性測厚法的膜厚儀是一種超小型測量?jì)x，它能快速，無(wú)損傷，地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的噴涂。電鍍層厚度的測量?？蓮V泛用于制造業(yè)，金屬加工業(yè)，化工業(yè)，商檢等檢測領(lǐng)域。特別適用于工程現場(chǎng)測量。

二次熒光法的測厚儀的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線(xiàn)或粒子射線(xiàn)照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩定的狀態(tài)。從不穩定狀態(tài)要回到穩定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線(xiàn)鍍層厚度測量?jì)x或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

鍍層膜厚儀性能優(yōu)勢

1.精密的三維移動(dòng)平臺

2.的樣品觀(guān)測系統

3.*圖像識別

4.輕松實(shí)現深槽樣品的檢測

5.四種微孔聚焦準直器，自動(dòng)切換

6.雙重保護措施，實(shí)現無(wú)縫防撞

7.采用大面積高分辨率探測器，有效降低檢出限，提高測試精度

全自動(dòng)智能控制方式，一鍵式操作!

開(kāi)機自動(dòng)自檢、復位；

開(kāi)蓋自動(dòng)退出樣品臺，升起Z軸測試平臺，方便放樣；

關(guān)蓋推進(jìn)樣品臺，下降Z軸測試平臺并自動(dòng)完成對焦；

直接點(diǎn)擊全景或局部景圖像選取測試點(diǎn)；

點(diǎn)擊軟件界面測試按鈕，自動(dòng)完成測試并顯示結果。